优普莱-一种PCB等离子体处理装置

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2022-08-08 14:09:06

摘要：一种PCB等离子体处理装置，包括：工艺腔，用于为PCB电路板提供等离子体加工场所；工艺腔设置有等离子体源，用于为位于工艺腔内的PCB电路板进行等离子体加工；传输轨道，贯穿工艺腔的腔体，用于通过工艺腔腔体的入口端向工艺腔腔体内传送PCB电路板以及通过工艺腔腔体的出口端将位于工艺腔腔体内的PCB电路板传出工艺腔腔体。相对于现有技术集中式人工放置PCB电路板进行等离子体处理的方案，本实施例的技术方案可以实现流水化作业，提高了等离子体处理效率。
申请人：深圳优普莱等离子体技术有限公司
地址： 518000 广东省深圳市南山区粤海街道科技园中区科苑路科兴科学园A1栋601
发明(设计)人：全峰邬钦崇邬明旭朱振龙
主分类号： H05K3/00(2006.01)I
分类号： H05K3/00(2006.01)I H05K3/26(2006.01)I

摘要：一种PCB等离子体处理装置，包括：工艺腔，用于为PCB电路板提供等离子体加工场所；工艺腔设置有等离子体源，用于为位于工艺腔内的PCB电路板进行等离子体加工；传输轨道，贯穿工艺腔的腔体，用于通过工艺腔腔体的入口端向工艺腔腔体内传送PCB电路板以及通过工艺腔腔体的出口端将位于工艺腔腔体内的PCB电路板传出工艺腔腔体。相对于现有技术集中式人工放置PCB电路板进行等离子体处理的方案，本实施例的技术方案可以实现流水化作业，提高了等离子体处理效率。

申请人： 深圳优普莱等离子体技术有限公司

地址： 518000 广东省深圳市南山区粤海街道科技园中区科苑路科兴科学园A1栋601

发明(设计)人： 全峰邬钦崇邬明旭朱振龙

主分类号： H05K3/00(2006.01)I

分类号： H05K3/00(2006.01)I H05K3/26(2006.01)I

法律状态

2017-09-15	实质审查的生效 IPC(主分类):H05K 3/00申请日:20170628

2017-08-22	公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

其他信息

主权项	1.一种PCB等离子体处理装置，其特征在于，包括：工艺腔，用于为PCB电路板提供等离子体加工场所；所述工艺腔设置有等离子体源，用于为位于所述工艺腔内的PCB电路板进行等离子体加工；传输轨道，贯穿所述工艺腔的腔体，用于通过所述工艺腔腔体的入口端向所述工艺腔腔体内传送PCB电路板以及通过所述工艺腔腔体的出口端将位于所述工艺腔腔体内的PCB 电路板传出所述工艺腔腔体。

公开号	107087349A

公开日	2017-08-22

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