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2022-08-08 13:51:18

择要：	本发明涉及一种具有聚合物涂层的电气或电子设备，通过将上述设备暴露于脉冲等离子体充足长的时间使得在电气或电子设备的外观上形成聚合物层而形成，所述永冲等离子体含有化学式(I)透露表现的化合物，其中R1，R2和R3自力地选自氢原子，烷基，卤烷基或任选被卤素庖代的芳基；R4是X-R5基团，其中R5是烷基或卤烷基，且X是化学键；化学式-C(O)O(CH2)nY-的基团，其中n是1-10的整数，Y是化学键或磺酰胺基团；或化学式-(O)PR6·(o)q.(CH2)t-的基团，其中R6是任选被卤素庖代的芳基，p是0或1，q是0或1，并且t是0或1-10的整数，前提是，当q是1时，t不为0。如许类型的设备被珍爱不受液体，尤其是外界液体的污染。
申请人：	P2I 有限公司
地址：	英国牛津郡
发明(设计)人：	S.库尔森
主分类号：	C09D4/00(2006.01)I
分类号：	C09D4/00(2006.01)I B05D7/24(2006.01)I
法律状况
2013/12/18	实质审查的生效IPC(主分类):C09D 4/00申请日:20070119

2013/11/20	公开

注：本法律状况信息仅供参考，即时正确的法律状况信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
其他信息
主权项	一种具有聚合物涂层的电气或电子设备，通过将所述设备暴露于含有化学式（Ⅰ）化合物的脉冲等离子体充足长的时间使得在电气或电子设备的外观上形成珍爱性聚合物层而形成其中?R1,?R2?和R3自力地选自氢原子，烷基，卤烷基或任选被卤素庖代的芳基；R4是X?R5?基团，其中R5?是烷基或卤烷基，且X是化学键；化学式的基团，其中n是1－10的整数，Y是化学键或磺酰胺基团；或化学式的基团，其中R6?是任选被卤素庖代的芳基，p是0或1，q是0或1，并且t是0或1－10的整数，前提是，当q是1时，t不为0。

公开号	103396688A

公开日	2013-11-20

专利代理机构	中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人	林毅斌杨思捷

颁证日

优先权	2006.01.20 GB 0601117.5;2006.01.26 US 60/762242

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