欧洲等离子公司- 用于低压力等离子体工艺在延续功率模式下生成等离子体的改动体例

WaterOff

2022-08-08 13:52:51

择要：	本发明涉及一种方法，包括步骤：引入包括待在低压力反应腔室中涂敷的外观的衬底；在所述反应腔室内在处理时段期间将所述外观暴露于等离子体；通过施加功率输入来确保稳固等离子体激发，其特性在于，功率输入在所述处理时段期间延续地严酷高于零瓦特(W)，并且包括至少一个下限功率以及严酷大于所述下限功率的至少一个上限功率，由此获得具有受涂敷的外观的衬底。本发明还涉及一种用于通过低压力等离子体工艺来处理衬底的装配以及因此而处理的衬底。
申请人：	欧洲等离子公司
地址：	比利时奥德纳尔德
发明(设计)人：	F.利坚 E.罗格 M.塞库
主分类号：	B05D1/00(2006.01)I
分类号：	B05D1/00(2006.01)I H01J37/32(2006.01)I
法律状况
2016/11/16	实质审查的生效 IPC(主分类):B05D 1/00申请日:20141007

2016/8/10	公开

注：本法律状况信息仅供参考，即时正确的法律状况信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
其他信息
主权项	一种涂敷方法，包括以下步骤：?引入包括待在低压力反应腔室中涂敷的外观的衬底；?在所述反应腔室内在处理时段期间将所述外观暴露于等离子体；?通过施加功率输入来确保稳固等离子体激发，其特性在于，功率输入在所述处理时段期间延续地严酷高于零瓦特(W)，并且包括至少下限功率和严酷大于所述下限功率的至少上限功率，并且上限功率与下限功率之间的改变的功率序列在处理时段期间重复，由此获得具有受涂敷的外观的衬底。

公开号	105848789A

公开日	2016-08-10

专利代理机构	北京市柳沈律师事务所 11105

代理人	史新宏

颁证日

优先权	2013.10.07 EP 13187623.7

国际申请	2014-10-07 PCT/EP2014/071466

国际宣布	2015-04-16 WO2015/052199 EN

进入国家日期	2016.05.30