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HZO-用于施涂珍爱性涂层的遮蔽基底

WaterOff
2022-08-08 13:55:00
择要:公开了施加珍爱性涂层到基底的选定部分上的方法。该方法包括施加掩膜到未被珍爱性涂层覆盖的基底的至少一个部分上或者在其上形成掩膜。可通过施加可流动的材料到基底上,选择性形成掩膜。或者,可由预成形的膜形成掩膜。在掩膜位于适当位置的情况下,可施加珍爱性涂层到基底和掩膜上。可在与掩膜的周边处或者与之相邻的位置处,例如通过从珍爱性涂层上切割,减弱或除去材料,由珍爱性涂层的其他部分勾画覆盖掩膜的部分珍爱性涂层。覆盖掩膜的部分珍爱性涂层,和掩膜,然后可从基底上除去。
申请人: HZO股份有限公司
地址: 美国犹他
发明(设计)人: D·J·阿瑟尔 T·C·蔡尔德 V·K·卡撒甘尼 C·L·露斯 B·L·史蒂文斯 M·E·索伦森
主分类号: B05D1/32(2006.01)I
分类号: B05D1/32(2006.01)I

 

  • 法律状况

2016-02-17  实质审查的生效IPC(主分类):B05D 1/32申请日:20140107
 
2015-10-21  公开
 

注:本法律状况信息仅供参考,即时正确的法律状况信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

  • 其他信息

主权项  施加珍爱性涂层到基底上的方法,该方法包括:制备掩膜材料以供施加到基底上;施加掩膜材料到基底的至少一个选定位置上,至少一个选定位置是通过珍爱性涂层暴露的位置;和施加力到掩膜材料上,以使掩膜材料与基底的至少一个选定位置的外形基本上贴合;和在该掩膜材料上施加珍爱性涂层。
 
公开号  104994965A
 
公开日  2015-10-21
 
专利代理机构  中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
 
代理人  陈季壮
 
颁证日  
 
优先权  2013.01.08 US 61/750,257;2013.01.08 US 61/750,254
 
国际申请  2014-01-07 PCT/US2014/010526
 
国际宣布  2014-07-17 WO2014/110046 EN
 
进入国家日期  2015.08.18

 

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